Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 52.91.0.68
    [SESS_TIME] => 1711657922
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => 1183075ff65dcc52c66ea7f7b2c393b0
    [UNIQUE_KEY] => 9e618a5b20f6e48705321e78a74aacc3
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Автометрия

2004 год, номер 3

ВЛИЯНИЕ УСАДКИ РЕГИСТРИРУЮЩЕГО МАТЕРИАЛА НА ДИСПЕРСИОННУЮ ХАРАКТЕРИСТИКУ ОТРАЖАТЕЛЬНОЙ ФАЗОВОЙ ГОЛОГРАММЫ

П. В. Трощанович, Н. А. Костров, Е. Ф. Пен
(Москва – Новосибирск)
Страницы: 71–82
Подраздел: ОПТИЧЕСКИЕ ИНФОРМАЦИОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ, ЭЛЕМЕНТЫ И СИСТЕМЫ

Аннотация

Исследовано влияние усадки регистрирующего материала на свойства объемной отражательной фазовой голограммы. Предложен метод решения обратной задачи экспериментального определения величины усадки материала по изменившимся под ее действием условиям оптимального восстановления голограммы. Приведены условия решения обратной задачи. Получено хорошее соответствие теоретических и экспериментальных результатов. Предложенная модель может быть применена при учете усадки материала в процессе проектирования голографических оптических элементов и голограмм диффузных объектов.