Математическое моделирование динамики химического превращения в тонких слоях экзотермических смесей при периодическом воздействии электроискровых разрядов
Б. С. Сеплярский, Т. П. Ивлева, Е. А. Левашов*
Институт структурной макрокинетики и проблем материаловедения РАН, 142432 Черноголовка, sepl@ism.ac.ru; *Научно-учебный центр СВС Московского государственного института стали и сплавов (технологического университета) и Института структурной макрокинетики и проблем материаловедения РАН, 119049 Москва
Ключевые слова: математическое моделирование, химическое превращение, смеси, воздействие, заряд.
Страницы: 59-68
Аннотация
Численно исследована динамика получения покрытия из слоя реакционноспособной шихты методом термореакционного электроискрового упрочнения. Показано, что основным параметром, определяющим тепловой режим нанесения покрытия, является исходная толщина слоя шихты. Определена область параметров осуществления процесса в режиме горения и в режиме квазиобъемного превращения. Изучено влияние частоты воздействия разрядов и теплофизических характеристик шихты и упрочняемой подложки на длительность времени нанесения покрытия. Установлено, что для конкретной шихты характерную температуру химического превращения можно регулировать, изменяя мощность электрического разряда и, соответственно, тепловой поток на активной стадии процесса, в то время как для образования покрытия при этой характерной температуре нужно, чтобы толщина активного слоя была меньше некоторого критического значения.
|