Исследование потоков газов, активированных в электронно-пучковой плазме
В. О. Константинов, С. Я. Хмель
Институт теплофизики им. С. С. Кутателадзе СО РАН, 630090 Новосибирск; khmel@itp.nsc.ru
Ключевые слова: зондовая диагностика, электронно-пучковая плазма, плазмохимическое осаждение тонких пленок кремния
Страницы: 3-10
Аннотация
Представлены результаты зондовых измерений температуры, концентрации, функции распределения по энергиям электронов и потенциала плазмы в свободной струе газа, активированной в электронно-пучковой плазме, и в плоском реакторе. Измерения проводились с помощью одиночного, двойного и тройного электростатических зондов в струях газовых смесей гелий—аргон и гелий—аргон—моносилан. Последняя из названных смесей использовалась для осаждения пленок микрокристаллического и эпитаксиального кремния. Более качественные пленки микрокристаллического кремния получались в плотной (ne ≈ 1017 м-3) и холодной (Te ≈1,0 ÷ 0,5 эВ) плазме с низким потенциалом (Usp ≈ 10 В), в то время как для выращивания монокристаллических пленок кремния требовалась более горячая плазма (Te ≈3 ÷ 5 эВ)с потенциалом Usp ≈15 В.
|