Низкотемпературное окисление водорода системами на основе оксида меди
Н. П. Кирик1, Е. В. Рабчевский2, А. Г. Аншиц3
1 Институт химии и химической технологии Сибирского отделения РАН, kiriknp@icct.ru 2 Институт химии и химической технологии Сибирского отделения РАН Сибирский федеральный университет 3 Институт химии и химической технологии Сибирского отделения РАН Сибирский федеральный университет, anshits@icct.ru
Страницы: 21-27
Аннотация
Приведены результаты по исследованию активности оксидных материалов, полученных путем нанесения оксида меди на оксиды алюминия с развитой поверхностью (5-26 % CuO/Оі-Al2O3 и 28 % CuO/Оё-Al2O3), в поглощении водорода при температурах 25-90 оС и давлении водорода 40 торр. Показано, что образцы с высоким содержанием оксида меди характеризуются удовлетворительными значениями удельной скорости окисления водорода и могут применяться в качестве поглотителей водорода, выделяющегося в процессе радиолиза, при транспортировке смешанных радиоактивных отходов в герметичных емкостях. водород, низкотемпературное окисление, твердые окислители, медьсодержащие оксидные системы
|