ИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕКТРОННОГО СТРОЕНИЯ ФЕНИЛСИЛАНОВ МЕТОДАМИ РЕНТГЕНОВСКОЙ ЭМИССИОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ И КВАНТОВО-ХИМИЧЕСКИХ РАСЧЕТОВ
Т. Н. Даниленко, М. М. Татевосян, В. Г. Власенко
Научно-исследовательский институт физики Южного Федерального университета danilenko@sfedu.ru
Ключевые слова: электронное строение, фенилсиланы, рентгеновская эмиссионная спектроскопия, теория функционала плотности
Страницы: 896-903
Аннотация
Проведено исследование электронного строения ряда фенилсиланов Ph4-nSiHn (n = 0-3) методами рентгеновской эмиссионной спектроскопии и квантово-химических расчетов в приближении теории функционала плотности. На основе расчетов построены теоретические рентгеновские эмиссионные SiKβ1-спектры фенилсиланов Ph4-nSiHn (n = 0-4), энергетическая структура и форма которых оказались в хорошем согласии с экспериментом. Также построены распределения плотностей электронных состояний различной симметрии атомов Si, C, H. Анализ полученных рентгеновских флуоресцентных SiKβ1-спектров и распределения плотностей электронных состояний в соединениях Ph4Si и Ph3SiH показал, что их энергетическая структура в основном определяется системой энергетических уровней фенильных лигандов, слабо возмущенных взаимодействиями с валентными АО кремния. В энергетической структуре МО соединения PhSiH3 преимущественным образом представлены орбитали энергетически связанные с t2- и a1-уровнями тетраэдрического SiH4.
|