Влияние углеродных наноматериалов на термостойкость допированных ими фотохимически отвержденных полидиметилсилоксановых полимеров
С. В. ЛУЗГАРЕВ1, М. В. ШЕРИНА1, А. С. ЛУЗГАРЕВ1,2, Т. Б. ТКАЧЕНКО1, А. А. МОРОЗ1,2, Ю. А. ШЕВЕЛЕВА1, Ч. Н. БАРНАКОВ2, А. В. САМАРОВ2
1Кемеровский государственный университет, ул. Красная, 6, Кемерово 650043 (Россия) polymer@kemsu.ru 2Институт углехимии и химического материаловедения Сибирского отделения РАН, проспект Советский, 18, Кемерово 650000 (Россия) luz.artem@gmail.com
Ключевые слова: полидиметилсилоксановые полимеры, углеродные наноматериалы, композиционные материалы, отверждение, фото- и термохимические реакции
Страницы: 147-150
Аннотация
Исследовано влияние углеродного наноматериала на термостойкость допированных им фотохимически обработанных полидиметилсилоксановых материалов. Показано, что введение в состав высокомолекулярного полидиметилсилоксанового каучука СКТ даже небольшого количества углеродного наноматериала значительно повышает термостойкость фотохимически отвержденного полимера при термолизе, как в инертной атмосфере, так и на воздухе. Предполагается, что это связано с его участием в подавлении деструкционных процессов. Предложены механизмы термо- и фотохимических процессов, протекающих в полимерной матрице.
DOI: 10.15372/KhUR20150207 |