Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 18.117.75.6
    [SESS_TIME] => 1732185454
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => 00201d8fc67c823820013bd43d9eaf0c
    [UNIQUE_KEY] => 8344ca62c1fd5f1e6e9ff5d2e014a8b1
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

    [SESS_OPERATIONS] => Array
        (
        )

)

Поиск по журналу

Автометрия

2015 год, номер 4

ЭЛЛИПСОМЕТРИЧЕСКОЕ ИССЛЕДОВАНИЕ ФОРМИРОВАНИЯ НАНОКОМПОЗИТОВ ОТЖИГОМ ПЛЁНОК SiOx В КИСЛОРОДСОДЕРЖАЩЕЙ СРЕДЕ

Н.В. Сопинский1, А.В. Руссу2
1Институт физики полупроводников им. В. Е. Лашкарева НАН Украины, 03028, Украина, г. Киев, просп. Науки, 45
sopinsky@isp.kiev.ua
2Национальный университет «Киево-Могилянская академия», 04655, Украина, г. Киев, ул. Григория Сковороды, 2
roussu.aleksander@gmail.com
Ключевые слова: кремниевые наночастицы, эллипсометрия, оптическая модель, разделение фаз, окисление, silicon nanoparticles, ellipsometry, optical model, phase separation, oxidation
Страницы: 121-127
Подраздел: НАНОТЕХНОЛОГИИ В ОПТИКЕ И ЭЛЕКТРОНИКЕ

Аннотация

Методом многоугловой эллипсометрии изучены фазово-структурные превращения, протекающие при термическом отжиге в воздушной среде вакуумно осаждённых плёнок SiOx. Анализ экспериментальных результатов с помощью набора оптических моделей, учитывающих неоднородность и анизотропность, позволил получить сведения о влиянии конкурирующих процессов фазового разложения и окисления плёнок SiOx на макро- и микроструктуру формирующихся систем в интервале температур отжига 650-1000 °С.