ИССЛЕДОВАНИЕ ФАЗОВОГО И ЭЛЕМЕНТНОГО СОСТАВОВ НАНОСИСТЕМ GeSi МЕТОДОМ КОМБИНАЦИОННОГО РАССЕЯНИЯ СВЕТА ПРИ ФЕМТОСЕКУНДНОМ ИМПУЛЬСНОМ ОТЖИГЕ
А.В. Двуреченский1,2, В.А. Володин1,2, Г.К. Кривякин1, А.А. Шкляев1,2, С.А. Кочубей1, И.Г. Неизвестный1, J. Stuchlik3
1Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН, 630090, г. Новосибирск, просп. Академика Лаврентьева, 13 dvurech@isp.nsc.ru 2Новосибирский государственный университет, 630090, г. Новосибирск, ул. Пирогова, 2 volodin@isp.nsc.ru 3Institute of Physics ASCR, 16200, Czech Republic, Praha 6, Stresovice, Cukrovarnicka, 112/10 stuj@fzu.cz
Ключевые слова: комбинационное рассеяние света, фононы, кремний, германий, Raman scattering, phonons, silicon, germanium
Страницы: 97-102 Подраздел: НАНОТЕХНОЛОГИИ В ОПТИКЕ И ЭЛЕКТРОНИКЕ
Аннотация
Анализ фазового и элементного составов гетероструктур GeSi, изготовленных на нетугоплавких подложках, проведён с помощью экспрессной и неразрушающей методики - спектроскопии комбинационного рассеяния света. Показано, что применение импульсных лазерных отжигов позволяет варьировать элементный состав и размеры нанокристаллов, формируемых из твёрдых растворов германия и кремния.
DOI: 10.15372/AUT20160511 |