Получение высококонтрастных "ковров Талбота" при использовании амплитудно-фазовой мезоволновой маски
Ю.Э. ГЕЙНЦ1, А.А. ЗЕМЛЯНОВ1, Е.К. ПАНИНА1, И.В. МИНИН2,3, О.В. МИНИН2,3
1Институт оптики атмосферы им. В.Е. Зуева СО РАН, Томск, Россия
ygeints@iao.ru
2Национальный исследовательский Томский политехнический университет, Томск, Россия
prof.minin@gmail.com
3Сибирский государственный университет геосистем и технологий, Новосибирск, Россия
oleg.minin@ngs.ru
Ключевые слова: эффект Талбота, фотолитография, дифракционные маски, Talbot effect, photolithography, diffraction mask
Страницы: 656-659
Аннотация
С помощью численного моделирования методом конечных элементов исследована пространственная структура поля оптической волны в ближней зоне составной амплитудно-фазовой дифракционной решетки с периодом штрихов порядка длины волны падающего излучения. Показано, что применительно к технологии оптической Талбот-литографии такая комбинированная бинарная маска обеспечивает многократное оптическое повышение контрастности интегрального «ковра Талбота» по сравнению с чистыми амплитудными и фазовыми масками. Проанализированы физические причины этого эффекта и установлена определяющая роль резонансов Ми, возбуждающихся внутри диэлектрических выступов фазовой маски, что может дать высокое пространственное разрешение (до четверти оптической волны) и максимальный оптический контраст (до 24 дБ) интегральных самоизображений Талбота.
DOI: 10.15372/AOO20200810 |
