Издательство СО РАН

Издательство СО РАН

Адрес Издательства СО РАН: Россия, 630090, а/я 187
Новосибирск, Морской пр., 2

soran2.gif

Baner_Nauka_Sibiri.jpg


Яндекс.Метрика

Array
(
    [SESS_AUTH] => Array
        (
            [POLICY] => Array
                (
                    [SESSION_TIMEOUT] => 24
                    [SESSION_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [MAX_STORE_NUM] => 10
                    [STORE_IP_MASK] => 0.0.0.0
                    [STORE_TIMEOUT] => 525600
                    [CHECKWORD_TIMEOUT] => 525600
                    [PASSWORD_LENGTH] => 6
                    [PASSWORD_UPPERCASE] => N
                    [PASSWORD_LOWERCASE] => N
                    [PASSWORD_DIGITS] => N
                    [PASSWORD_PUNCTUATION] => N
                    [LOGIN_ATTEMPTS] => 0
                    [PASSWORD_REQUIREMENTS] => Пароль должен быть не менее 6 символов длиной.
                )

        )

    [SESS_IP] => 13.59.236.219
    [SESS_TIME] => 1713988771
    [BX_SESSION_SIGN] => 9b3eeb12a31176bf2731c6c072271eb6
    [fixed_session_id] => ac4eab4f7f68a883b416816a4556276a
    [UNIQUE_KEY] => b32311828e726b9c018b7768a96cb021
    [BX_LOGIN_NEED_CAPTCHA_LOGIN] => Array
        (
            [LOGIN] => 
            [POLICY_ATTEMPTS] => 0
        )

)

Поиск по журналу

Автометрия

2007 год, номер 6

ДИНАМИКА ПРОЦЕССА ЗАПИСИ СКРЫТОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ В ПЛЕНКАХ ХРОМА: МОДЕЛИРОВАНИЕ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ

В. Г. Никитин
Конструкторско-технологический институт научного приборостроения СО РАН, г. Новосибирск
E-mail: vladn@tdisie.nsc.ru
Страницы: 97-107

Аннотация

Изучены особенности формирования температурного следа при круговой лазерной записи в пленках хрома на стеклянных подложках. Проведен расчет температурного поля для широкого диапазона радиусов записи (20–150 мм). Рассмотрена динамика прогрева пленки хрома на кварцевой подложке при включении пучка в процессе движения для случаев с зависящими и независящими от температуры теплофизическими коэффициентами пленки и подложки. На основе результатов расчетов показано различие формы (асимметрия) температурного следа при включении и выключении записывающего пучка и предложена методика коррекции процедуры подбора мощности записывающего пучка для нанесения небольших (порядка нескольких микрон) штрихов. Проведено сравнение с экспериментальными данными. Обсуждается различие изображений синтезированных микроструктур в проходящем и отраженном свете.