Влияние поверхностно-активных веществ на катодное осаждение теллура из щелочных растворов
А.Г. БЕЛОБАБА, А.И. МАСЛИЙ
Институт химии твердого тела и механохимии Сибирского отделения РАН, Новосибирск, Россия
belobaba@ngs.ru
Ключевые слова: поверхностно-активные вещества, скорость реакций, осаждение теллура, образование дителлурид-анионов, щелочные растворы, морфология поверхности, surfactants, rate of reactions, tellurium deposition, formation of ditelluride anions, alkaline solutions, surface morphology
Страницы: 7-12
Аннотация
Методом вольтамперометрии на предварительно покрытом осадком теллура графитовом электроде исследовано влияние ряда поверхностно-активных веществ на скорость целевой реакции осаждения теллура из щелочных теллуритных растворов и побочной реакции дальнейшего восстановления до дителлурид-анионов, а также на выход по току и морфологию катодных осадков теллура. Показано, что лигносульфонат натрия и поливиниловый спирт слабо влияют на скорости обеих катодных реакций, а, соответственно, и на морфологию осадков теллура. Добавка гидроксида тетрабутиламмония ингибирует обе реакции, но одновременно резко ухудшает качество катодного осадка: формируется слабо сцепленный с поверхностью порошкообразный осадок, который частично осыпается с подложки и практически полностью смывается при промывке водой. Наиболее эффективной добавкой для получения плотных осадков теллура является смачиватель ОП-10: он существенно ингибирует осаждение теллура и подавляет побочную реакцию его растворения в практически важной области потенциалов до наступления предельного тока. Одновременно ОП-10 значительно улучшает морфологию осадка и обеспечивает получение мелкокристаллических плотных катодных осадков теллура.
DOI: 10.15372/KhUR20180102 |
