Низкотемпературное наращивание алмазных затравок в кислых растворах.
Р. Л. Дунин-Барковский, И. Б. Словцов, А. Р. Дунин-Барковский*, О. В. Дроздова**, Б. И. Кидяров**, С. С. Коляго**, Е. М. Кожбахтеев***, Е. Е. Лисицина***, А. А. Марьин***
Институт вулканической геологии и геохимии Дальневосточного отделения РАН,
бульвар Пийпа, 9, Петропавловск-Камчатский 683006 (Россия)
*Брянский завод полупроводниковых приборов, Брянск 241000 (Россия)
**Институт физики полупроводников СО РАН,
пр-т Акад. Лаврентьева, 13, Новосибирск 630090 (Россия)
***Всероссийский научно-исследовательский институт синтеза минерального сырья,
ул. Институтская, 1, Александров 601600 (Россия)
Аннотация
Исследовано доращивание природных и искусственных затравок алмаза из низкотемпературных гидротермальных водных растворов – смесей азотной, серной и уксусной кислот (  20–30 %) при атмосферном давлении и температурах 38–90 оС простым методом прямого температурного перепада 10–60 оС и использовании графита как источника углерода. Показано, что наблюдается тангенциальный рост прозрачных, бесцветных, почти сплошных гладких слоев на гранях  111  и 110 , в то время как ускоренный рост грани 100 происходит практически по нормальному механизму. Максимальная скорость роста затравок достигается при температурном перепаде 50 оС. Обсуждены различные стадии окислительно-восстановительного процесса трансформации графит  алмаз и возможность его протекания в природе в постмагматических водных растворах. |
