ДИНАМИКА ПРОЦЕССА ЗАПИСИ СКРЫТОГО ИЗОБРАЖЕНИЯ В ПЛЕНКАХ ХРОМА: МОДЕЛИРОВАНИЕ И ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ РЕЗУЛЬТАТЫ
В. Г. Никитин
Конструкторско-технологический институт научного приборостроения СО РАН, г. Новосибирск E-mail: vladn@tdisie.nsc.ru
Страницы: 97-107
Аннотация
Изучены особенности формирования температурного следа при круговой лазерной записи в пленках хрома на стеклянных подложках. Проведен расчет температурного поля для широкого диапазона радиусов записи (20–150 мм). Рассмотрена динамика прогрева пленки хрома на кварцевой подложке при включении пучка в процессе движения для случаев с зависящими и независящими от температуры теплофизическими коэффициентами пленки и подложки. На основе результатов расчетов показано различие формы (асимметрия) температурного следа при включении и выключении записывающего пучка и предложена методика коррекции процедуры подбора мощности записывающего пучка для нанесения небольших (порядка нескольких микрон) штрихов. Проведено сравнение с экспериментальными данными. Обсуждается различие изображений синтезированных микроструктур в проходящем и отраженном свете.
|