ЗАВИСИМОСТЬ РЕАКЦИОННОЙ СПОСОБНОСТИ АЛКИЛ-ДОПИРОВАННЫХ СЛОЕВ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ ОТ ХАРАКТЕРА СВЯЗЫВАНИЯ Si-O-Si
Ф. Н. Дульцев
Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН, fdultsev@thermo.isp.nsc.ru
Ключевые слова: реконструкция поверхности, пористый диоксид кремния, молекулярная механика
Страницы: 623-628
Аннотация
При помощи моделирования методом молекулярной механики ММ2 и полуэмпирическими методами MNDO/PM3 показано, что наиболее вероятный механизм модифицирования поверхности алкил-допированных слоев диоксида кремния в плазме - взаимодействие с группами СН3. Отрыв атома водорода вызывает изменение характера связывания Si-O-Si, что приводит к увеличению числа групп Si-O-Si с углом в области 144-146°. Последующая обработка в плазме аммиака приводит к закупориванию пор, происходящему через образование цепей -CH-Si-O-Si-O-Si-O-Si-. Предложенный механизм хорошо объясняет экспериментальные спектры FTIR и изменение реакционной способности пористых слоев после проведения обработки в гелиевой плазме.
|